| 序号 | 项目 | 详细 |
|---|---|---|
| 1 | 应用领域 | OLED / QLED / 钙钛矿 / 探测器等 |
| 2 | 基板尺寸 | 常规尺寸 210 mm × 210 mm，并向下兼容；支持定制 |
| 3 | 蒸发系统 | 束源，坩埚容量 1–20 cc，配置 6–12 个蒸发源 |
| 4 | 常规材料 | C60 / BCP / Ag / Cu / PbI₂ / CsI₂ / PbCl₂ / MgF₂ / LiF / FAI 等 |
| 5 | 设备特点 | 蒸镀腔与 LL 腔架构，可在不破真空的情况下更换基片或掩膜版；10 小时可蒸镀 740 片 25 mm × 25 mm 基片（C60 / BCP / Ag）。若按每名学生每批 16 片计算，一天可满足 45 名学生的实验需求 |
| 6 | 片内均匀性 | 97% |
| 7 | 片间重复性 | 95% |
| 8 | 速率稳定性 | ±3% |
| 9 | 一键自动化 | 支持 |